2010年3月,TICRA新發布了POS 5.3版本,比之前的POS 5.2,主要添加了以下兩方面新功能:
• 支持MPI Linux cluster:POS的反射面優化有時候比較耗時,新版本允許針對“optimise”命令采用MPI并行計算。以往優化過程中,POS不斷比較剩余誤差和目標后生成適當的新參數再次計算,直到最后得到最優結果。在并行計算環境中,主機節點只需要確定生成新的計算參數,電磁場和電流的計算等是在并行節點中同時計算的。需要注意的是,該功能需要用戶自己配置Linux系統的MPI并行環境。
• 命令行運行方式的license排隊機制:采用浮動license時,如果license用戶數達到上限,對于新提交的任務,原來版本會馬上拒絕,這就需要用戶在license空閑時候手動再提交一次。POS5.3 提供了license排隊機制,可以將新任務進行排隊,等license釋放時自動計算。
2010年4月,TICRA新發布了GRASP9.7版本,比之前的GRASP9.6,主要添加了以下兩方面新功能:
• 新版本加入準光系統設計插件QUAST,該插件是在原來Frame Design Tool基礎上開發,擴展了諸如簡單透鏡、分波器(beam splitters)、Martin-Puplett干涉儀等功能,需要單獨的license支持。
• GRASP 9.7增加了近場平面波展開功能,該功能對于一些應用能夠起到加快仿真速度、提高精度作用。
2010年7月,TICRA新發布了CHAMP 2.1版本。比之前的CHAMP 2.0.4,主要添加了以下四方面新功能:
• CHAMP 2.1改進了喇叭設計向導,現在能得到更精確的增益和照射錐削初始值,并且能選擇喇叭張角。
• 簡化優化設置,能更簡單有效的設置優化目標值。同時,增加了新優化目標:軸向增益和口徑效率。
• CHAMP 2.1允許用戶輸出自定義軸向偏置距離的SWE參數,可以使得SWE參數的中心放在相位中心位置,并且自動導出到GRASP里面。
• CHAMP的輸出結果能保存為和GRASP相同的格式。
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