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EMCoS 最新版 EMC Studio 7.0 新特性介紹
EMC Studio 是一款可實(shí)現(xiàn)包括線纜線束等實(shí)際復(fù)雜工程 EMC 問題的精確分析工具，可混合使用矩量法（MOM）、 等效源（MAS）、傳輸線（MTL）、網(wǎng)絡(luò)分析（SPICE）、物理光學(xué)（PO）等多種方法精確分析復(fù)雜綜合大系統(tǒng)（如車輛，飛行器，船舶或計(jì)算機(jī)系統(tǒng)）的電磁場(chǎng)分布、串?dāng)_、耦合、敏感性、電磁干擾（EMI）以及虛擬電磁兼容測(cè)試等問題。EMC Studio 可實(shí)現(xiàn)整個(gè) EMC 流程的完整分析：從最初的概念決策、到子系統(tǒng)階段性的測(cè)試仿真、及至后期完整系統(tǒng) EMC 的驗(yàn)證測(cè)試。
EMCoS已發(fā)布 EMC Studio 7.0最新版本 與之前版本相比 EMC Studio 7.0 在用戶界面和求解方法等方面都有了很大改進(jìn)，具體主要包括如下內(nèi)容：
適用于車輛玻璃天線建模的新工具包
針對(duì)玻璃天線的建模處理問題，EMC Studio 7.0 提供了新的先進(jìn)建模工具，帶來了顯著的進(jìn)步。
天線設(shè)計(jì)建模
天線設(shè)計(jì)圖樣預(yù)處理自動(dòng)化完成（可將天線前處理時(shí)間從一周降至2小時(shí)）
對(duì)玻璃表面和天線生成離散模型的流程實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化（數(shù)分鐘內(nèi)既得可靠結(jié)果）
對(duì)玻璃天線采用了改進(jìn)的操作方式進(jìn)行物理材料分配（GUI的重大改進(jìn)）
天線電纜建模
對(duì)線管中的電纜生成 3D 矩量法（MoM）模型
天線終端辮接建模
指定線段節(jié)點(diǎn)和線長(zhǎng)自動(dòng)生成電纜模型
得到擴(kuò)展的多任務(wù)計(jì)算功能
EMC Studio v7.0 的多任務(wù)求解功能支持多種快速求解技術(shù)的綜合應(yīng)用（多重激勵(lì)源求解和矩陣分離方法），便于進(jìn)行優(yōu)化和微調(diào)。先進(jìn)的 GUI 工具為仿真模型準(zhǔn)備和計(jì)算任務(wù)設(shè)置提供了更多的靈活性。
模型分解：模型幾何結(jié)構(gòu)需要被分解為主要部分（基礎(chǔ)層）和附加部分（附加層）。
激勵(lì)源組定義：所有的激勵(lì)源需要被整合為群組（激勵(lì)源組）。
計(jì)算任務(wù)定義：在模型分解和激勵(lì)源組定義完成后，所有的層和群組被繼續(xù)整合為專門的組合（任務(wù)組），構(gòu)成待求解的計(jì)算任務(wù)并可以按照用戶定義的順序依次執(zhí)行。
無限大地平面可在 Z 方向靈活定義
導(dǎo)入的幾何模型與地平面經(jīng)常會(huì)發(fā)生交疊的現(xiàn)象。對(duì)于這種情況，可以為地平面定義所需的 Z 向高度，從而很方便的調(diào)整模型使之位于地平面以上。相比于對(duì)導(dǎo)入模型進(jìn)行平移操作，這種新的操作方式無疑具有更大的自由度。在默認(rèn)情況下，地平面被置于 Z=0 平面處。通過在地平面屬性對(duì)話框中定義所需的 Z 平面數(shù)值，即可沿 Z 軸調(diào)整地平面位置。
源和場(chǎng)計(jì)算參數(shù)的高級(jí)控制方式
平面波源的相位中心定義
遠(yuǎn)場(chǎng)觀察區(qū)域的相位中心和相對(duì)坐標(biāo)系定義
用于近場(chǎng)計(jì)算結(jié)果數(shù)據(jù)導(dǎo)出的相對(duì)坐標(biāo)系定義
在 EM 仿真中支持采用 BICGSTAB（共軛梯度穩(wěn)定）矩陣求解器
EMC Studio v7.0 在 TriD 電磁場(chǎng)求解器中提供了多種有效的計(jì)算加速技術(shù)，用于處理大型 EMC 問題：
BICGSTAB（共軛梯度穩(wěn)定）方法應(yīng)用于線性系統(tǒng)的數(shù)值求解問題
ACA（自適應(yīng)截面近似）技術(shù)用于求解矩陣壓縮和降低內(nèi)存消耗
SPAI（稀疏近似求逆）技術(shù)保證迭代求解器可以快速實(shí)現(xiàn)收斂
注入電流源的高級(jí)建模方法
EMC Studio v7.0 提供了為注入電流源建模的新功能：
在幾何模式中基于曲線模型創(chuàng)建注入電流源
可創(chuàng)建多部分注入電流對(duì)象
可對(duì)注入電流部分進(jìn)行選擇性操作（添加、刪除、修改）
基于已存在的幾何點(diǎn)定義注入電流單元邊界點(diǎn)
注入電流數(shù)據(jù)的 2D 和3D 顯示
對(duì)注入電流部分的操作功能（導(dǎo)出為文件，基于選定子線段創(chuàng)建新注入電流源，創(chuàng)建終端節(jié)點(diǎn)，融合注入電流等）
新的隨機(jī)性分析方法
EMC Studio v7.0 對(duì)于隨機(jī)性線束提供了經(jīng)過改進(jìn)的先進(jìn)計(jì)算方法和分析工具。由于使用了新的隨機(jī)性分析方法，對(duì)于給定的帶有隨機(jī)性線纜線束的系統(tǒng)，可以執(zhí)行若干次仿真并對(duì)計(jì)算結(jié)果數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)學(xué)處理，最終得到該系統(tǒng)的特性。
得到的結(jié)果可以以隨機(jī)性分布圖的形式被顯示，圖上不同區(qū)域以色標(biāo)顯示概率分布結(jié)果。
低頻磁場(chǎng)分析類型——新特性和改進(jìn)
在線圈天線的應(yīng)用中支持鐵氧體材料和線纜分段
用于快速迭代計(jì)算的表面分塊方法
近場(chǎng)源——新特性和改進(jìn)
近場(chǎng)源的高級(jí)創(chuàng)建方法
支持用于平移和旋轉(zhuǎn)操作的相對(duì)坐標(biāo)系
近場(chǎng)源的多重激勵(lì)求解
改進(jìn)的可視化顯示設(shè)置
系統(tǒng)和原理圖設(shè)計(jì)——新特性和改進(jìn)
系統(tǒng)原理圖中改進(jìn)了對(duì)電纜參考點(diǎn)的處理
經(jīng)過重新設(shè)計(jì)的局部和整體接地點(diǎn)體系
原理圖模式中新的電路連接點(diǎn)元件模型
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